SOME BY MI Retinol Intense Daily Mask 30 db - Regeneráló és Feszesítő Maszk Szett
A Some By Mi Retinol Intense Daily Mask egy innovatív, gazdaságos és környezettudatos megoldás a bőr textúrájának javítására. A maszkokat átitató esszencia alacsony koncentrációjú, de stabil retinoidokat tartalmaz, így alkalmas a mindennapi használatra. A bakuchiol természetes antioxidánsként támogatja a retinol hatását, minimalizálva az esetleges érzékenységet. A niacinamid segít a tónus egységesítésében, az arginin aminosav pedig erősíti a bőr védőrétegét. Kiváló választás azoknak, akik a tág pórusok, a finom vonalak vagy az élettelen arcbőr ellen keresnek folyamatos, napi szintű megoldást.
Miért fogod imádni?
- 30 napos kúra: Egy teljes hónapra elegendő intenzív ápolás egyetlen csomagban.
- Retinol + Retinál + Bakuchiol: Háromszoros erő a ráncok és a petyhüdtség ellen.
- Pórusfinomítás: Segít összehúzni a tág pórusokat és szabályozza a hámlást.
- Mélyhidratálás: Többféle hialuronsavval tölti fel a nedvességraktárakat.
- Antioxidáns védelem: Niacinamiddal küzd a szabad gyökök és a pigmentfoltok ellen.
- Praktikus és higiénikus: Egyszerűen kivehető maszkok, ideális a napi rutinhoz.
Főbb hatóanyagok:
- Bakuchiol: Növényi retinol-alternatíva, amely feszesít és egységesíti a textúrát.
- Retinol & Retinál: Serkentik a kollagéntermelést és javítják a bőr szerkezetét.
- Hialuronsav-komplex: Megköti a vizet a bőrben, hosszan tartó hidratálást biztosítva.
- Niacinamid: Világosítja az arcot és erősíti a bőr védőgátját.
- Arginin: Segíti a bőr regenerálódását és rugalmasságát.
Használati útmutató:
Arctisztítás és tonizálás után a mellékelt csipesz segítségével (ha van) vagy tiszta kézzel vegyél ki egy maszkot a dobozból. Hajtsd szét és illeszd az arcodra. Hagyd hatni 15-20 percig, majd távolítsd el a maszkot. A maradék eszenciát az ujjbegyeiddel finoman paskold be a bőrödbe. Fontos: Használat után mindig gondosan zárd vissza a dobozt! Napközben kötelező a magas faktorú fényvédő használata! Felbontás után 3 hónapon belül javasolt felhasználni.
